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1200℃滑动双温区/多温区PECVD系统

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1200℃滑动双温区/多温区PECVD系统

产品用途:产品专业性:PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。
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技术参数
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销售热线:022-26980130  15122725930  赵经理

 

产品用途:

产品专业性:

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。

 

产品组成:

PECVD系统配置:

1.1200度开启式双温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统(可选配中真空或高真空)  

 

产品特点:

生长温度低;沉积速率快;成膜质量好,适用范围广,设备简单。

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