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1200度小型PECVD系统

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1200度小型PECVD系统

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。集成型PECVD系统PECVD-12IH-500A、1200℃小型PECVD系统PECVD-12IH-4Z/G
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产品描述
技术参数
售后服务

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产品用途

PECVD系统是借助射频使含有薄膜组成原子的气体电离,在局部形成等离子体,而等离子体化学活性很强,很容易发生反应,在基片上沉积出所期望的薄膜。

产品组成

PECVD系统配置;

1.1200度开启式滑动单温区真空管式炉

2.等离子射频电源

3.多路质量流量控制系统

4.真空系统(单独购买)

产品特点

电源范围广;温度范围宽;溅射区域长;整管可调;精致小巧,性价比高,可实现快速升降温,是实验室生长薄膜石墨烯,金属薄膜,陶瓷薄膜,复合薄膜等的理想选择,也可作为扩展等离子清洗刻蚀使用。

系统名称

集成型PECVD系统

1200℃小型PECVD系统

系统型号

PECVD-12IH-500A

PECVD-12IH-4Z/G

控制方式

液晶屏微PLC控制系统

手动

最高温度

1200

加热区长度

200mm

恒温区长度

100mm

温区

单温区

石英管管径

Φ60mm

Φ50mm

额定功率

1.2Kw

2Kw

额定电压

220V

滑动方式及距离

自动滑动;200mm

手动滑动;200mm

温度控制

30段程序控温

50段程序控温

控制精度

±1

炉管最高工作温度

1200

气路法兰

采用多环密封技术卡箍快速连接

排风冷却装置

先进的空气隔热技术,结合热感应技术,当炉体表面温升到50℃时,

排温风扇将自动启动,使炉体表面快速降温。

气体控制方式

质量流量计(按键式)

气路数量

2路(2-4路)

4路(可根据具体需要选配气路数量)

流量范围

0-500sccm(标准毫升/分,可选配)氮气标定

精度

±1%F.S

响应时间

1sec

工作温度(流量计)

20-120

工作压力

进气压力0.05-0.3Mpa(表压力)

进气方式

采用防倒流设计

规格

中真空(集成型请单独购买)

系统真空范围

10Pa-100Pa

真空泵

双级机械泵理论极限真空度3x10-1Pa,抽气速率4L/S(选配:其他抽速真空泵),出气口配有油污过滤器,额定电压220V,功率0.55Kw

信号频率

13.56MHz±0.005%

功率输出范围

0W-500W

0W-100W

最大反射功率

350W

30W

射频输出接口

50Ω,N-type,temale

功率稳定度

±0.1%

谐波分量

-50dbc

供电电压

单相交流(187V-253V)频率50/60HZ

整机功率

70%

屏幕显示

正方向功率,匹配器电容位置,偏置电压值

炉体外形尺寸

290×350×340mm

290×350×495mm

系统外形尺寸

420×1440×1100mm

530×2310×750mm

系统总重量

270Kg

 

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