- 产品描述
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真空气氛箱式炉是一种可在真空或可控气氛环境下进行高温热处理的精密实验设备。该设备采用高洁净度的石英腔体，配合精密的温度控制系统与气体氛围调控系统，能够满足对材料洁净度与处理气氛有严苛要求的工艺。其广泛应用于金属热处理、锂电池材料、半导体及电子材料研发等领域。
系统参数：
产品名称
真空气氛炉 产品型号
ZKX-200F 最高温度
1100℃ 工作温度
≤1000℃ 炉膛尺寸
φ210/φ200×385mm 恒温区
φ200×200mm 承重范围
≤3Kg 炉胆材质
石英 加热元件
电阻丝 测温元件
热电偶K偶 升温速率
0-1000℃≤10℃/min;1000℃~1100℃≤5℃/min 控温方式
智能化30段可编程控制(PID独立控制调节) 控温精度
±1℃ 真空度
真空度：≥1.0×103Pa;中真空度：≥1×102Pa(用机械泵8L) 额定电压
220V 额定功率
10KW 炉体尺寸
570×915×640mm(深×宽×高) 标准配置
气路总成一套(含真空压力表),石英胆一个，隔热堵一个，钩子一把，手套一副
关键词：
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